ZnO/Zn界面对纳米ZnO薄膜光学性质的影响

• 作者: 刘益春 季辉 汤庆鑫 童艳红 路丽霞
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 等离子体辅助电子束蒸发 纳米ZnO薄膜 ZnO/Zn界面 光致发光
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 229-233
• 页数: 5页
• 分类号: O472.3|O482.31
• 字数: 3818字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-7032.2006.02.019

摘要

采用氧等离子体辅助电子束蒸发金属Zn后低温退火的方法制备纳米ZnO薄膜.利用X射线衍射(XRD)谱、拉曼(Raman)谱、X射线光电子能谱(XPS)以及光致发光(PL)谱等手段,分析了退火温度及ZnO/Zn界面对样品的结构和发光性质的影响.Raman结果表明随着退火温度的升高,界面模式(Es)振动减弱并向低波数方向移动.当退火温度为400℃时,界面振动消失,Zn全部转化成具有六方纤锌矿结构的ZnO,得到化学配比的纳米ZnO薄膜.PL谱表明,经400℃退火处理的样品紫外发射最强,发光性质最好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘益春	东北师范大学物理学院光电材料研究中心	50	292	10.0	15.0
2	路丽霞	河北工业大学理学院普物教研室	2	12	2.0	2.0
3	汤庆鑫	中国科学院化学研究所有机固体重点实验室	3	59	3.0	3.0
4	童艳红	中国科学院激发态物理重点实验室	1	5	1.0	1.0