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摘要:
采用射频磁控溅射方法在熔石英玻璃衬底上制备了ZnO薄膜.薄膜的X射线衍射(XRD)分析表明样品具有较好的结晶性和良好的c轴取向.光致发光(PL)性能分析发现,分别在398 nm和470 nm波长出现了较强的发光峰,与ZnO薄膜通常的发光峰位置明显不同.通过分析表明,398 nm波长的发光峰是由于导带电子跃迁到Zn空位引起,470 nm波长的发光峰是由于间隙Zn电子跃迁到Zn空位上而产生.
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文献信息
篇名 Zn缺陷对ZnO薄膜光学特性的影响
来源期刊 辽宁大学学报(自然科学版) 学科 物理学
关键词 ZnO薄膜 光致发光 Zn缺陷
年,卷(期) 2009,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 6-8
页数 3页 分类号 O484.4
字数 1660字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1000-5846.2009.01.002
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ZnO薄膜
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Zn缺陷
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季刊
1000-5846
21-1143/N
大16开
沈阳市皇姑区崇山中路66号
8-147
1974
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