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摘要:
采用脉冲激光沉积技术(PLD)在单晶Si衬底上制备了Ni掺杂的ZnO薄膜,通过VARAIN CaryEclips 500型荧光光谱仪研究了样品的荧光特性.观察到360和380 nm左右2个荧光峰.通过Ni掺杂,研究了360 nm左右荧光峰的起源.结果表明,随着靶材中Ni掺杂量的不同,荧光峰峰位不变,而相应的发光强度发生了明显的变化.当靶材中Ni:ZnO的摩尔比Xs为5%时,样品中360 nm紫外荧光峰的发光强度最佳,表明360 nm左右荧光峰并不是重掺杂后杂质能级深入到导带的结果,有可能是起源于分裂的价带与导带间的复合跃迁.
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文献信息
篇名 Ni掺杂ZnO薄膜的荧光特性
来源期刊 光谱学与光谱分析 学科 物理学
关键词 ZnO薄膜 掺杂效应 荧光特性
年,卷(期) 2006,(11) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 2069-2071
页数 3页 分类号 O484
字数 1570字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1000-0593.2006.11.027
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 马学鸣 华东师范大学物理系 26 277 10.0 16.0
2 刘晓雪 华东师范大学物理系 8 73 5.0 8.0
3 程文娟 华东师范大学物理系 5 20 3.0 4.0
4 石旺舟 华东师范大学物理系 10 59 4.0 7.0
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研究主题发展历程
节点文献
ZnO薄膜
掺杂效应
荧光特性
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
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期刊影响力
光谱学与光谱分析
月刊
1000-0593
11-2200/O4
大16开
北京市海淀区学院南路76号钢铁研究总院
82-68
1981
chi
出版文献量(篇)
13956
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