铬过渡层对银膜光学性质及附着力的影响

• 作者: 孙喜莲 邵建达
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 银膜 微结构 光学性质 附着力
• 年，卷（期）: 2006,（12）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 1680-1683
• 页数: 4页
• 分类号: O4
• 字数: 3285字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2006.12.020

摘要

研究了在玻璃基底上采用不同厚度的铬膜作过渡层,对银膜的光学性质及其附着力的影响.光谱测量结果表明,随着铬膜层厚度的增加,银膜的反射率先增大后减小.与直接镀在玻璃基底上的银膜的反射率相比,铬膜层厚度为8～14 nm时,银膜的反射率较低;铬膜层厚度为17～21 nm时,银膜的反射率得到提高,其中铬膜厚度为17 nm时,银膜的反射率最高;继续增加铬膜层的厚度,银膜的反射率又降低,说明采用一定厚度的铬膜作过渡层可以提高银膜的反射率.X射线衍射(XRD)结构分析表明,一定厚度的铬膜改善了银膜的结晶程度,使薄膜的晶粒度增大,晶界散射及缺陷减少,从而使应变减小.剥落实验证明薄膜与玻璃基底之间的附着力也得到了提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	孙喜莲	中国科学院上海光学精密机械研究所	5	64	5.0	5.0