CdS薄膜的生长和结构分析

• 作者: 介万奇 蔡小梅 陈福义
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: CdS薄膜 化学浴沉积 胶体粒子
• 年，卷（期）: 2006,（9）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 1408-1410
• 页数: 3页
• 分类号: TN204
• 字数: 1411字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2006.09.017

摘要

使用化学浴沉积(CBD)在硫酸镉-硫脲的氨溶液中,成功地制备出了高质量的CdS薄膜.用扫描电境(SEM)、X射线衍射(XRD)及紫外-可见-近红外光谱仪对其进行了测试分析,结果表明,NH3摩尔浓度对生成CdS薄膜的表面致密性影响很大,当NH3摩尔浓度比较大时,无法生成连续致密的胶体颗粒薄膜,反应体系中S2-和Cd2+溶液的摩尔浓度增加,CdS胶体粒度增大.在相同NH3摩尔浓度下,随着S2-和Cd2+摩尔浓度比值([S2-]/[Cd2+])的增大,CdS胶体粒子粒度减小;透过光谱的峰位随着胶体粒子尺寸的减小向短波方向移动,当NH3摩尔浓度变化时,在一定的范围内改变CdS膜的透过率.将化学浴沉积(CBD)过程的研究从薄膜厚度优化改进为胶体粒子尺寸优化,促进了CBD技术的发展.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	介万奇	西北工业大学材料学院	272	1636	19.0	27.0
2	陈福义	西北工业大学材料学院	37	110	5.0	8.0
3	蔡小梅	西北工业大学材料学院	2	11	2.0	2.0