基于AlN压电层的薄膜体声波谐振器

• 作者: 刘婵 叶芸 吴雯 张凯 胡光 顾豪爽
• 来源期刊: 湖北大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 薄膜体声波谐振器 氮化铝 择优取向 空腔
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 物理学与电子技术
• 页码范围: 153-155
• 页数: 3页
• 分类号: TN405
• 字数: 1835字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-2375.2007.02.013

摘要

以AlN薄膜为压电层,采用体硅微细加工工艺制备背空腔型结构薄膜体声波谐振器.材料测试结果表明,在优化溅射工艺下沉积的AlN薄膜具有(002)择优取向及良好的柱状晶结构.扫描电镜表征结果证实所制得空腔背部平滑且各向异性较好.用网络分析仪测试可知,所制得的谐振器具有较好的频率特性:谐振频率为2.537 GHz,机电耦合系数3.75%,串、并联品质因数分别为101.8、79.7.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	顾豪爽	湖北大学物理学与电子技术学院	86	386	10.0	14.0
2	胡光	湖北大学物理学与电子技术学院	5	55	3.0	5.0
3	张凯	湖北大学物理学与电子技术学院	8	60	3.0	7.0
4	叶芸	湖北大学物理学与电子技术学院	3	30	2.0	3.0
5	吴雯	湖北大学物理学与电子技术学院	8	43	3.0	6.0
6	刘婵	湖北大学物理学与电子技术学院	4	33	3.0	4.0