脉冲分子镀制备铀靶方法研究

• 作者: 张生栋 杨春莉 苏树新
• 来源期刊: 核化学与放射化学
• 学科: 工学
• 关键词: 脉冲分子镀 DMF 均匀性 铀靶
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 首届全国核化学与放射化学青年学术研讨会论文选
• 页码范围: 210-215
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.441
• 字数: 4280字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0253-9950.2007.04.004

摘要

采用脉冲电沉积方法, 以N,N-二甲基甲酰胺(DMF)体系为电镀介质,研究了电极距离、溶剂DMF的体积、沉积时间、铀的质量浓度、阴极材料等对镀层性能和铀沉积率的影响,得到在DMF中脉冲分子镀铀的最佳条件, 制备得到的靶面平整、牢固.用扫描电镜分析了铀靶的形貌和组成,采用测厚仪分析了铀靶厚度的均匀性.结果表明,在脉冲电沉积中,铀是非均匀沉积,靶面密度为0.2～2.0 mg/cm2.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张生栋	中国原子能科学研究院放射化学研究所	72	145	5.0	9.0
2	杨春莉	中国原子能科学研究院放射化学研究所	2	5	1.0	2.0
3	苏树新	中国原子能科学研究院放射化学研究所	1	1	1.0	1.0