基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
采用脉冲激光沉积设备(PLD)在GaN(0001)晶向上成功沉积了铁电多晶膜LiNbO_3,然后采用热蒸发法在薄膜表面镀铝电极。并对制备的LiNbO_3薄膜进行XRD表征以及对金属-铁电体-半导体(MFS)结构进行了C-V表征,XRD结果表明,沉积温度对薄膜的晶化有很大的影响;C-V测量结果表明,MFS的GaN激活层在5V下就能得到反转,这是一般半导体基集成电路的要求电压。GaN基的MFS结构在GaN基场效应晶体管的实际应用中是非常有前景的。
推荐文章
脉冲激光沉积系统(PLD)的应用——制备GaN薄膜
脉冲激光沉积系统
GaN材料
薄膜材料
沉积温度
沉积气压
脉冲激光沉积法制备VO_2热致变色薄膜研究进展
脉冲激光沉积
VO_2
薄膜
制备
掺杂
室温下用脉冲激光沉积E-BN薄膜
E-BN薄膜
脉冲激光沉积
扫描电镜
红外吸收光谱
X射线衍射
脉冲激光制备银掺杂硅及其红外性能研究
半导体光学性质
红外吸收
超掺杂
脉冲激光熔融
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 脉冲激光沉积制备Al-LiNbO_3-GaN结构研究
来源期刊 功能材料信息 学科 工学
关键词 PLD LiNbO_3 C-V
年,卷(期) 2007,(5) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围
页数 1页 分类号 TB381
字数 语种
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 郑有炓 南京大学物理系光电信息重点实验室南京大学物理系光电信息重点实验室 78 353 11.0 15.0
2 顾书林 南京大学物理系光电信息重点实验室南京大学物理系光电信息重点实验室 46 261 9.0 14.0
3 张荣 南京大学物理系光电信息重点实验室南京大学物理系光电信息重点实验室 134 576 13.0 17.0
4 修向前 南京大学物理系光电信息重点实验室南京大学物理系光电信息重点实验室 28 97 5.0 9.0
5 韩平 南京大学物理系光电信息重点实验室南京大学物理系光电信息重点实验室 22 92 6.0 9.0
6 谢自力 南京大学物理系光电信息重点实验室南京大学物理系光电信息重点实验室 19 44 5.0 6.0
7 严文生 南京大学物理系光电信息重点实验室南京大学物理系光电信息重点实验室 1 0 0.0 0.0
8 江瑞莲 南京大学物理系光电信息重点实验室南京大学物理系光电信息重点实验室 1 0 0.0 0.0
9 施易 南京大学物理系光电信息重点实验室南京大学物理系光电信息重点实验室 1 0 0.0 0.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (0)
参考文献  (0)
节点文献
引证文献  (0)
同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
2007(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
PLD
LiNbO_3
C-V
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
功能材料信息
双月刊
32开
重庆市北碚区蔡家岗镇嘉德大道8号
2004
chi
出版文献量(篇)
7130
总下载数(次)
19
总被引数(次)
2166
论文1v1指导