阴极还原处理对多孔硅发光性能的影响

• 作者: 元美玲 戴丽丽 王水凤
• 来源期刊: 南昌大学学报（理科版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 多孔硅 阴极还原 发光稳定性
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 页码范围: 174-176,185
• 页数: 4页
• 分类号: O482.31
• 字数: 2864字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-0464.2007.02.020

摘要

对经过阴极还原处理后的多孔硅样片进行了光致发光测试和稳定性测试.实验结果表明这种处理能明显改善多孔硅的发光稳定性,使其表面结构更加稳定.利用原子力显微镜对不同还原时间的多孔硅微结构及形貌进行了比较,在一定范围内随着还原时间的增长多孔硅表面粗糙度增大,PL谱增强.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王水凤	南昌大学物理学系	15	55	4.0	6.0
2	元美玲	南昌大学物理学系	15	103	5.0	10.0
3	戴丽丽	南昌大学材料科学系	3	29	2.0	3.0