磁控溅射制备TiO2光催化薄膜工艺条件的优化

• 作者: 孙杰 孙艳 常铁军 武秀芳
• 来源期刊: 应用科技
• 学科: 工学
• 关键词: 正交试验 玻璃基片磁控溅射 TiO2薄膜 光催化性能
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 材料与化学
• 页码范围: 66-68,72
• 页数: 4页
• 分类号: TX791
• 字数: 2058字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-671X.2007.01.018

摘要

采用正交实验设计法优化了玻璃基片表面磁控溅射制备TiO2光催化活性薄膜的工艺条件,以罗丹明B的降解率作为薄膜光催化性的评价标准.结果表明:所考察的因素对薄膜光催化性能的影响次序是靶基距＞基片温度＞溅射气压＞溅射功率＞氧氩比和靶基距的交互作用＞氧氩比;所得优化条件为:功率155 W,靶基距85 mm,气压1.2 Pa,氧氩比1:10,基片温度550℃.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	常铁军	哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院	26	241	10.0	14.0
2	武秀芳	哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院	3	22	3.0	3.0
3	孙杰	哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院	14	73	5.0	8.0
4	孙艳	哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院	6	64	3.0	6.0