溅射功率对直流磁控溅射TiO2薄膜光学性能的影响

• 作者: 史新伟 姚宁 李杏瑞 王晓 马群超
• 来源期刊: 河南科技大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 溅射功率 TiO2薄膜 光催化活性
• 年，卷（期）: 2018,（6）
• 所属期刊栏目: 数理科学
• 页码范围: 84-89
• 页数: 6页
• 分类号: O433.4|TB34
• 字数: 4250字
• 语种: 中文
• DOI: 10.15926/j.cnki.issn1672-6871.2018.06.016

摘要

通过改变溅射功率,使用直流磁控溅射设备,在玻璃衬底上制备了系列TiO2薄膜.分别用扫描电子显微镜、X射线衍射仪和椭偏光谱仪测试了TiO2薄膜的形貌、结构及厚度.使用紫外-可见分光光度计测试了TiO2薄膜的光学性能.使用TiO2薄膜降解罗丹明B溶液测试了其光催化活性.研究结果表明:溅射功率增大,薄膜的透射谱及吸收谱在紫外出现明显的"红移"现象,光学带隙从3.51 eV减小到3.40 eV.适当提高溅射功率有利于提高TiO2薄膜的光催化活性,当溅射功率为213 W时,薄膜的光催化性能最好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姚宁	郑州大学物理工程学院	122	692	12.0	18.0
2	史新伟	郑州大学物理工程学院	28	177	7.0	12.0
3	王晓	郑州大学物理工程学院	32	228	8.0	14.0
4	李杏瑞	郑州大学材料科学与工程学院	12	64	4.0	7.0
5	马群超	郑州大学物理工程学院	3	5	1.0	2.0