压强对直流磁控溅射TiN薄膜光学性能的影响

• 作者: 史新伟 周强 姚宁 安子凤 李杏瑞 马群超
• 来源期刊: 郑州大学学报（理学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 氮化钛 直流磁控溅射 压强 光学性能
• 年，卷（期）: 2018,（4）
• 所属期刊栏目: 基础科学与工程技术
• 页码范围: 58-63
• 页数: 6页
• 分类号: TB34|O484
• 字数: 3549字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13705/j.issn.1671-6841.2018060

摘要

使用直流磁控溅射设备,不同压强下在玻璃衬底上制备了系列TiN薄膜.采用紫外-可见光分光光度仪测试了样品的光学性能,采用四探针法测量了样品的方块电阻.研究了溅射沉积过程中压强对TiN薄膜光学性能的影响.结果表明,随着反应压强的增大,TiN薄膜在可见光区透射率增强,反射率降低;薄膜厚度减小,方块电阻增大,中远红外光区的反射率降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姚宁	郑州大学物理工程学院	122	692	12.0	18.0
2	史新伟	郑州大学物理工程学院	28	177	7.0	12.0
3	安子凤	郑州大学物理工程学院	2	9	1.0	2.0
4	周强	郑州大学物理工程学院	11	26	3.0	4.0
5	李杏瑞	郑州大学材料科学与工程学院	12	64	4.0	7.0
6	马群超	郑州大学物理工程学院	3	5	1.0	2.0