高气压下微晶硅薄膜的生长及微结构研究

• 作者: 卢景霄 张丽伟 文书堂 杨根 汪昌州 王子健 谷锦华 陈永生
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 等离子体增强化学气相沉积 微晶硅薄膜 高气压 高速沉积 微观结构
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 页码范围: 646-649,686
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2007.03.036

摘要

通过射频等离子体增强化学气相沉积,在高气压条件下制备了微晶硅薄膜,并用拉曼光谱仪(Raman)、扫描电镜(SEM)研究了微晶硅薄膜的微观结构.发现沉积速率在5Torr左右出现极大值,薄膜的晶化率随着沉积气压的升高而降低,薄膜表面的晶粒或团簇随着沉积气压的下降而增大,薄膜的粗糙度随着沉积气压的升高而降低.