Cu/Ni多层膜的调制波长与力学性能的关系

• 作者: 严志军 严立 程东 高玉周
• 来源期刊: 大连海事大学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Cu/Ni多层膜 调制波长 力学性能 电化学沉积 单槽法
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 122-124
• 页数: 3页
• 分类号: O484.5
• 字数: 1597字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-7736.2007.03.027

摘要

为研究Cu/Ni多层膜的调制波长与力学性能的关系,采用计算机控制的单槽双脉冲控电位沉积系统,在Cu基体上沉积Cu/Ni多层膜,分别采用扫描电镜和纳米压痕技术对Cu/Ni多层膜的截面和硬度进行了测试.结果表明:电沉积方法制备的Cu/Ni多层膜具有良好的周期结构;在调制波长为37 nm时硬度达到极值;在调制波长小于37 nm时其硬度值明显下降.实验结果符合理论分析中多层膜的硬度随调制波长的变化规律,但临界调制波长大于理论计算结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	严志军	大连海事大学轮机工程学院	81	532	11.0	17.0
2	程东	大连海事大学轮机工程学院	53	357	10.0	15.0
3	严立	大连海事大学机电与材料工程学院	75	645	13.0	20.0
4	高玉周	大连海事大学机电与材料工程学院	44	467	12.0	19.0