电沉积Cu/Ni多层膜硬度与调制波长关系的研究

• 作者: 任凤章 李武会 苏娟华 马战红
• 来源期刊: 河南科技大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 电沉积 多层膜 硬度 调制波长
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 1-4
• 页数: 4页
• 分类号: TG115.5|O484.5
• 字数: 3119字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-6871.2008.03.001

摘要

分别采用双槽法和单槽法制备了不同调制波长的Cu/Ni多层膜,研究了多层膜硬度与调制波长之间的关系.结果表明,当调制波长大于33 nm时,硬度与调制波长的关系符合Hall-Petch关系式;小于33 nm时,偏离了Hall-Petch关系式;等于21 nm时,硬度出现了峰值,约为HV451.8.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	苏娟华	河南科技大学材料科学与工程学院	93	549	13.0	18.0
2	马战红	河南科技大学材料科学与工程学院	45	226	8.0	12.0
3	任凤章	河南科技大学材料科学与工程学院	221	1239	16.0	22.0
4	李武会	河南科技大学材料科学与工程学院	5	32	3.0	5.0