离子束辅助反应制备的氧化铪薄膜特性

• 作者: 晋云霞 王聪娟 范正修 邵建达
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 氧化铪 离子束辅助 反应沉积
• 年，卷（期）: 2007,（12）
• 所属期刊栏目: 粒子束技术
• 页码范围: 2087-2090
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2709字
• 语种: 中文

摘要

采用电子束直接蒸发氧化铪、无辅助电子束反应蒸发和离子束辅助反应蒸发金属铪3种沉积方式制备了单层HfO2薄膜,对样品的光学性能、结构特性以及激光损伤特性进行了研究.实验结果表明:通过反应沉积的方法可以有效减少缺陷产生并改善均匀性,施加离子辅助可以提高薄膜的折射率,在一定条件下还可以有效地降低吸收,但激光损伤阈值仍未达到直接采用氧化铪制备的水平;晶体结构方面,离子辅助条件下可以获得单斜相氧化铪薄膜,并且随着轰击能量的提高由(002)面的择优取向向(-111)面转变.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达		10	77	5.0	8.0
2	范正修		8	77	5.0	8.0
3	王聪娟		1	10	1.0	1.0
4	晋云霞		1	10	1.0	1.0