中频等离子体化学气相沉积法制备ZnO薄膜

• 作者: 黄兴奎
• 来源期刊: 中国西部科技：学术版
• 学科: 工学
• 关键词: ZNO薄膜 中频等离子体化学气相沉积 村底温度
• 年，卷（期）: 2007,（7）
• 页码范围: 1-3
• 页数: 3页
• 分类号: TM914.41

摘要

ZnO是一种多功能材料，目前处于世界范围的研究热潮中。为了拓展和改善ZnO的应用，采用中频等离子体化学气相沉积法（MF-PCVD）制备了ZnO薄膜，并研究了衬底温度对晶型和成膜速率的影响．

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄兴奎	荆楚理工学院电子信息学院	16	16	2.0	2.0