脉冲激光沉积法制备氧化锌薄膜

• 作者: 刘耀东 赵磊
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 ZnO薄膜 紫外受激发射 脉冲激光沉积
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 534-537
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2114字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2007.04.018

摘要

ZnO是一种新型的Ⅱ-Ⅵ族半导体材料,具有优良的晶格、光学和电学性能,其显著的特点是在紫外波段存在受激发射.利用脉冲激光沉积法(PLD)在氧气氛中烧蚀锌靶制备了纳米晶氧化锌薄膜,衬底为石英玻璃,晶粒尺寸约为28～35 nm.X射线衍射(XRD)结果和光致发光(PL)光谱的测量表明,当衬底温度在100～250℃范围内时,所获得的ZnO薄膜具有c轴的择优取向,所有样品的强紫外发射中心均在378～385 nm范围内,深能级发射中心约518～558 nm,衬底温度为200℃时,得到了单一的紫外光发射(没有深能级发光).这归因于其较高的结晶质量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵磊	吉林大学汽车材料教育部重点实验室	30	212	6.0	14.0
2	刘耀东	长春工业大学材料科学与工程学院	26	102	5.0	9.0