过渡层ZrO2对不同沉积厚度TiO2薄膜结构的影响

• 作者: 惠迎雪 杜玉军 杨陈
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 化学
• 关键词: TiO2薄膜 ZrO2过渡层 电子束蒸发 薄膜厚度 薄膜结构
• 年，卷（期）: 2007,（8）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 146-147
• 页数: 2页
• 分类号: O6
• 字数: 1778字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2007.08.038

摘要

TiO2作为高介电常数材料已被广泛研究.为了防止TiO2与Si基底发生反应,在Si与TiO2之间加入与TiI2结构相似热稳定性好的ZrO2作为过渡层.改变TiO2薄膜厚度,并在900℃对薄膜进行1h退火处理.通过XRD分析显示,随着TiO2厚度减小,各衍射峰强度逐渐降低,但各峰位及其相对强度无明显变化.通过SEM可以发现,热处理前各薄膜均无裂纹和孔洞.热处理后,TiO2厚度为150m及80nm的薄膜平整光滑无裂纹孔洞,晶粒排列致密晶界清晰,当TiO2厚度降为30nm时,薄膜仍平整光滑,只在晶界上出现因热处理而产生的缩孔.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨陈	西北工业大学材料学院	7	29	4.0	5.0
2	惠迎雪	西安工业大学光电学院	38	186	6.0	12.0
4	杜玉军	西安工业大学光电学院	26	142	6.0	11.0