脉冲激光沉积制备的Co80Cr20/Ti90Cr10薄膜的结构与磁性

• 作者: 曾凡浩 章晓中
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁性薄膜 Ti90Cr10 界面结合力 Co80Cr20
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 522-528
• 页数: 7页
• 分类号: TN2
• 字数: 6431字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2007.01.085

摘要

用脉冲激光沉积(PLD)的方法在硅单晶基片上制备了Ti90Cr10和Co80Cr20/Ti90Cr10薄膜,用XRD研究了Ti90Cr10薄膜的晶体结构与制备温度的关系,结果表明随着温度升高,薄膜从非晶态逐步向晶态转化,并且计算了Ti90Cr10薄膜的晶粒大小以及晶格常数.利用透射电镜对Ti90Cr10薄膜进行了表面和截面形貌的表征.采用纳米压痕仪对Ti90Cr10薄膜的硬度和膜基界面结合力进行了分析,表明薄膜的硬度和膜基结合力随制备条件改变有所变化,制备温度增加,薄膜的硬度和膜基结合力随之增加.利用Ti90Cr10薄膜作为中间层,用PLD制备了Co80Cr20磁性层,获得了很好的垂直磁化性质,膜厚减小,矫顽力和矩形比有所增加,600℃真空条件下制备的Co80Cr20(8 nm)/Ti90Cr10(14 nm)薄膜的矫顽力为65.25 kA/m,矩形比为0.86,并且讨论了Co80Cr20/Ti90Cr10薄膜的磁化性质.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	章晓中	清华大学材料科学与工程系先进材料教育部重点实验室	13	134	5.0	11.0
2	曾凡浩	清华大学材料科学与工程系先进材料教育部重点实验室	1	3	1.0	1.0