退火温度对ZrW2O8薄膜结构和结合力的影响

• 作者: 刘红飞 张志萍 徐桂芳 徐红星 程晓农
• 来源期刊: 江苏大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 钨酸锆 薄膜 磁控溅射 热处理 结合力
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 127-130
• 页数: 4页
• 分类号: TB43|O484.5
• 字数: 1778字
• 语种: 中文

摘要

采用纯ZrW2O8陶瓷靶材,以射频磁控溅射法在石英基片上沉积制备了ZrW2O8薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、划痕仪和表面粗糙轮廓仪研究了薄膜的相组成、表面形貌、薄膜与基片之间的结合力和薄膜厚度.试验结果表明:磁控溅射制备的薄膜为非晶态,在740℃热处理3 min后得到三方相ZrW2O8薄膜,在1 200 ℃封闭试样的条件下热处理8 min淬火得到立方相ZrW2O8薄膜;随着热处理温度的提高,薄膜的晶粒逐渐长大,平滑致密的表面出现了一些孔洞和缺陷,同时薄膜与基片之间的结合力也逐渐降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	程晓农	江苏大学材料科学与工程学院	344	2629	24.0	32.0
2	徐桂芳	江苏大学材料科学与工程学院	50	344	11.0	16.0
3	徐红星	江苏大学材料科学与工程学院	24	184	8.0	12.0
4	刘红飞	江苏大学材料科学与工程学院	20	152	7.0	11.0
5	张志萍	江苏大学材料科学与工程学院	17	105	6.0	9.0