电子束光刻制备5 000 line/mm光栅掩模关键技术研究

• 作者: 刘明 叶甜春 张庆钊 朱效立 牛洁斌 谢常青 赵珉 陈宝钦
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 电子束光刻 X射线透射光栅 邻近效应校正 X射线光刻
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: 电子束技术
• 页码范围: 4-5,13
• 页数: 3页
• 分类号: TN405
• 字数: 1706字
• 语种: 中文

摘要

为了制备高线密度X射线透射光栅掩模,分析了电子束光刻中场拼接对高线密度光栅图形的影响;利用几何校正技术和低灵敏度的950 k的PMMA电子束抗蚀剂,克服了电子束的邻近效应对厚胶图形曝光的影响.采用电子束光刻和微电镀的方法制备了5 000line/mm x射线透射光栅的掩模,并将栅线宽度精确控制在100 nm～110 nm,为X射线光刻复制高线密度X射线透射光栅创造了有利条件.