单晶硅材料电致双折射的研究

• 作者: 任策 刘秀环 张玉红 时宝 武文卿 贾刚 陈占国
• 来源期刊: 红外与毫米波学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 克尔效应 弗朗兹-凯尔迪什效应 电致双折射 三阶非线性极化率张量 偏振态
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 全国半导体物理学术会议邀请报告选编
• 页码范围: 165-168,175
• 页数: 5页
• 分类号: O472+.3
• 字数: 3948字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9014.2008.03.002

摘要

首次测量了硅材料在1.3μm波长处,基于克尔效应和弗朗兹-凯尔迪什效应的电致双折射,进而计算出三阶非线性极化率张量X(3)的分量X(3)xyxy.观测到弗朗兹-凯尔迪什效应引起的折射率变化与入射光的偏振态有关.在实验中,测得了由克尔效应引起的折射率之差为⊿n=5.49×10-16E20,而弗朗兹-凯尔迪什效应引起的折射率之差为⊿n'=2.42×10-16E2.50.