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End-Hall源沉积类金刚石膜的实验
End-Hall源沉积类金刚石膜的实验
基本信息来源于合作网站，原文需代理用户跳转至来源网站获取
摘要：
介绍了采用End-Hall源沉积DLC膜的方法,在简单说明其工作原理的同时给出了实验的各项技术参数;通过对实验结果和DLC膜样品的分析,可看出用End-Hall源沉积方式能够消除RFCVD沉积方式所带来的边缘效应.
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文献信息
| 篇名 | End-Hall源沉积类金刚石膜的实验 | ||
| 来源期刊 | 南开大学学报（自然科学版） | 学科 | 物理学 |
| 关键词 | 类金刚石膜 End-Hall源 射频等离子放电沉积 边缘效应 | ||
| 年，卷（期） | 2008,（1） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 1-4,9 | |
| 页数 | 5页 | 分类号 | O436.1 |
| 字数 | 语种 | 中文 | |
| DOI | |||
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研究主题发展历程
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类金刚石膜
End-Hall源
射频等离子放电沉积
边缘效应
研究起点
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期刊影响力
南开大学学报(自然科学版)
主办单位：
南开大学
出版周期：
双月刊
ISSN：
0465-7942
CN：
12-1105/N
开本：
大16开
出版地：
天津市南开区卫津路94号
邮发代号：
6-174
创刊时间：
1955
语种：
chi
出版文献量（篇）
2529
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13
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