磁流变抛光高精度光学表面中的工艺参数

• 作者: 宋辞 彭小强 戴一帆
• 来源期刊: 纳米技术与精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 磁流变抛光 光学平面 光学球面 高精度光学表面
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 所属期刊栏目: 精密加工
• 页码范围: 424-429
• 页数: 6页
• 分类号: TH.166
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-6030.2008.06.006

摘要

对磁流变抛光进行高精度光学表面加工中必须考虑和控制的7类参数,即磁流变液黏度、磁场强度、磁流变液流量、抛光轮转速、锻带厚度、切深以及抛光斑点特性进行分析和优化,得出单因素条件下材料的去除量总是同这7类参数的变化存在一定的内在联系.在分析和优化磁流变抛光过程中这些参数的基础上,采用自研的KDMRF-1000机床对一块K4材料口径100 mm的平面镜进行了抛光加工实验.经过两次循环大约200 min的抛光后.面形误差值由最初的峰谷值(PV)为262 nm,均方根值(RMS)为49 nm收敛到最终的PV为55 nm.RMS为5.7 nm.实验中面形误差的收敛表明:只要掌握了磁流变抛光过程中的这7种参数的变化规律,就能充分利用磁流变抛光技术,为高精度光学表面的加工提供可靠的保障.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	戴一帆	国防科学技术大学机电工程与自动化学院	64	1121	16.0	32.0
2	彭小强	国防科学技术大学机电工程与自动化学院	26	313	10.0	17.0
3	宋辞	国防科学技术大学机电工程与自动化学院	8	56	3.0	7.0