高分辨场发射俄歇电子探针研究纳米锗硅量子点结构的表面组分分布

• 作者: 刘俊亮 薛菲
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 其他
• 关键词: 俄歇元素面分布扫描 纳米结构 量子点 元素分布
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 24-25
• 页数: 2页
• 分类号: O582|TB383
• 字数: 1663字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2008.05.010

摘要

纳米结构单体组分分布的研究对基础研究及应用探索具有非常重要的意义.应用高分辨场发射俄歇电子能谱和扫描电子束对在550℃和640℃生长温度下分别沉积在硅单晶衬底上的纳米锗硅量子点结构的形貌和表面组分分布进行观察,结果表明:表层分布元素不是纯锗、硅或均匀单一的锗硅合金,而是不均匀分布的锗硅混合物.纳米结构内,元素呈不均匀分布,锗元素富集在中心部位.640℃生长温度下的相同形貌的纳米点结构显示不同的元素分布性质.组分分布的巨大差异是由不同温度下硅向锗中不均匀偏析所致.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘俊亮		16	65	4.0	7.0
2	薛菲		3	5	2.0	2.0