不同方法制备的Ta2O5薄膜光学性能和激光损伤阈值的对比分析

• 作者: 晋云霞 肖祁陵 董洪成 许程 邵建达 麻健勇
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 激光损伤阈值 吸收 退火
• 年，卷（期）: 2008,（10）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 1595-1599
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 3191字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2008.10.031

摘要

采用电子束蒸发(EBE)和离子柬溅射(IBS)制备了不同的Ta2O5薄膜,同时对电子束蒸发制备的薄膜进行了退火处理.研究了制备的Ta2O5薄膜的光学性能、激光损伤阈值(LIDT)、吸收、散射、粗糙度、微缺陷密度和杂质含量.结果表明,退火可使电子束蒸发制备的薄膜的光学性能得到改善,接近离子柬溅射的薄膜的光学性能.电子束蒸发制备的薄膜的损伤阈值较低的主要原因在于吸收大,微缺陷密度和杂质含量高,而与薄膜的散射和粗糙度关系不大.退火后薄膜的吸收和微缺陷密度都明显降低,损伤阈值得到提高.退火后的薄膜损伤阈值仍然低于溅射得到的薄膜损伤阈值是因为退火并不能降低膜内的杂质含量,因此选用高纯度的蒸发膜料和减少电子柬蒸发过程中的污染有可能进一步提高薄膜的损伤阈值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	许程	中国科学院上海光学精密机械研究所	2	26	2.0	2.0
5	董洪成	中国科学院上海光学精密机械研究所	3	55	3.0	3.0
9	肖祁陵	中国科学院上海光学精密机械研究所	3	35	3.0	3.0
13	麻健勇	中国科学院上海光学精密机械研究所	3	22	2.0	3.0
17	晋云霞	中国科学院上海光学精密机械研究所	15	122	7.0	11.0