KMC模拟薄膜生长反常效应的研究

• 作者: 张佩峰 贺德衍 郑小平 郝远
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: KMC 薄膜 反常效应 交换
• 年，卷（期）: 2008,（10）
• 所属期刊栏目: "2008第七届中国国际纳米科技(武汉)研讨会"论文专辑
• 页码范围: 29-31,34
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2008.10.008

摘要

以扩散理论基础,建立以"基本微观过程"为核心的新模型,首次对存在表面活化剂时薄膜生长的微观过程进行KINETIC MONTECARLO模拟.模拟发现,温度较低时沉积原子自身更容易聚集成核,这一反常效应是由于表面活化剂原子比沉积原子更容易被激活扩散造成的.活化层原子和沉积原子都会发生跨层间的扩散,交换比并非恒等于1,而是与温度、入射率、成膜厚度等多种因素有关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	贺德衍	兰州大学物理科学与技术学院	68	559	13.0	19.0
2	郑小平	兰州城市学院电子信息科学与技术研究所	32	111	6.0	9.0
4	郝远	兰州理工大学甘肃省有色金属新材料重点实验室	139	1172	16.0	25.0
5	张佩峰	兰州城市学院电子信息科学与技术研究所	11	111	5.0	10.0