阴极电弧法定向生长的铜纳米线上沉积非晶碳膜及其场发射特性

• 作者: 叶忠信 宋健民 汪岛军 谭振台 黄柏仁
• 来源期刊: 新型炭材料
• 学科: 工学
• 关键词: 场发射 非晶碳膜 铜纳米线(CuNWs) 阳极氧化铝(AAO)
• 年，卷（期）: 2009,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 97-101
• 页数: 5页
• 分类号: TB333
• 字数: 957字
• 语种: 中文
• DOI: 10.1016/S1872-5805(08)60040-2

摘要

以阴极电弧法,分别于硅基材与铜纳米线(CuNWs)/硅基材(其中铜纳米线系阳极氧化铝(AAO)模板技术成长于硅基材上)沉积非晶碳膜,,分别以扫描电子显微镜(SEM)、原子力电子显微镜(AFM)和X光电子光谱仪(XPS)表征了非晶碳膜/铜纳米线/硅基材与非品碳膜/硅基材两者之表面形貌、粗糙度、结构及键结等物理特性.并比较两者之电子场发射特性.研究结果显示:两者都拥有低起始电场及高电流密度,其中非品碳膜/铜纳米线/硅基材的场发射起始电压为3.75 V/μm优于非品碳膜/硅基材的15 V/μm,因此非晶碳膜/铜纳米线/硅基材更适用于场发射平面显示器(FED)之发射子,可应用于高稳定性及低成本之场发射平面显示器之研发.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	叶忠信	国立云林科技大学工程科技研究所	3	10	2.0	3.0
5	汪岛军	国立云林科技大学工程科技研究所	3	10	2.0	3.0
6	黄柏仁	国立云林科技大学工程科技研究所	3	10	2.0	3.0
10	谭振台	国立云林科技大学工程科技研究所	1	7	1.0	1.0
11	宋健民		1	7	1.0	1.0