简析0.18μm CMOS反相器的主要工艺流程

• 作者: 邵春声
• 来源期刊: 常州工学院学报
• 学科: 工学
• 关键词: 集成电路制造工艺 CMOS反相器 pMOS nMOS
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 页码范围: 37-40,44
• 页数: 5页
• 分类号: TN405
• 字数: 2153字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-0436.2009.01.010

摘要

虽然集成电路制造工艺在快速发展,但始终都是以几种主要的制造工艺为基础.文章介绍了0.18μmCMOS反相器的主要工艺流程,并对集成电路的主要制造工艺作了简要分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵春声	常州工学院电子信息与电气工程学院	11	33	3.0	5.0