透明导电薄膜ZnO∶Zr的制备及特性研究

• 作者: 刘汉法 张化福 类成新 袁长坤
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: ZnO∶Zr薄膜 透明导电薄膜 溅射功率 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 所属期刊栏目: 器件制备技术及器件物理
• 页码范围: 61-65
• 页数: 5页
• 分类号: TN304.2+1|TN305.92
• 字数: 2452字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2780.2009.01.013

摘要

利用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备出了可见光透过率高、电阻率低的ZnO∶Zr(ZZO)透明导电薄膜.讨论了溅射功率对ZZO薄膜结构、形貌及光电性能的影响.研究结果表明,溅射功率对ZZO薄膜的结构和电学性能有很大影响.实验制备的ZZO薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有垂直于衬底方向的c轴择优取向.在溅射功率为115 W时,ZZO薄膜的电阻率具有最小值1.9×10-3 Ω*cm,其霍尔迁移率和载流子浓度分别为18.7 cm2*V-1*s-1和2.07×1020 cm-3.所制备ZZO薄膜样品具有良好的附着性能,其可见光区平均透过率均超过92%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘汉法	山东理工大学物理与光电信息技术学院	57	316	11.0	13.0
2	张化福	山东理工大学物理与光电信息技术学院	52	292	11.0	13.0
3	类成新	山东理工大学物理与光电信息技术学院	48	201	8.0	10.0
4	袁长坤	山东理工大学物理与光电信息技术学院	23	126	6.0	10.0