温度对TiN/Ti多层膜微观结构和氧化行为的影响

• 作者: 王喜眉 邵天敏 龚海飞
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: TiN/Ti 多层薄膜 微观结构 氧化行为
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 20-25
• 页数: 6页
• 分类号: TH117.1
• 字数: 2918字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-9289.2009.05.005

摘要

研究了TiN/Ti多层膜不同温度下的微观结构和氧化行为.采用阴极弧离子镀沉积的方法制备了19层调制周期为200 nm的TiN/Ti多层膜及相应的TiN单层膜.采用高分辨场发射电子显微镜(HR-FESEM)、光学显微镜和X射线衍射仪(XRD)分别对膜层断面结构、表面形貌和物相进行分析.结果表明,随着加热温度的升高,TiN单层膜在350℃时开始出现局部剥落,550℃出现大范围的剥落,而多层膜未发生剥落;相对TiN单层膜,TiN/Ti多层膜具有层状结构,其抗氧化能力有一定的提高.结合试验结果,讨论了TiN/Ti多层膜和TiN单层膜的工作温度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵天敏	清华大学摩擦学国家重点实验室	38	479	13.0	20.0
2	龚海飞	清华大学摩擦学国家重点实验室	3	55	3.0	3.0
3	王喜眉	清华大学摩擦学国家重点实验室	1	7	1.0	1.0