掺钨氧化钒薄膜的制备及研究

• 作者: 余志明 刘学璋 陈爽 魏秋平 龙航宇
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 掺钨 VO2
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 31-35
• 页数: 5页
• 分类号: TG146.4
• 字数: 3270字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-9289.2009.05.007

摘要

采用复合靶磁控溅射法在SiO2玻璃、普通玻璃和Si(100)上沉积氧化钒薄膜,然后对其进行真空退火.分别利用X射线衍射、原子力显微镜、紫外可见光分光光度计和红外光谱仪分析样品的物相、表面形貌和光透过率.结果表明:500 ℃下退火1 h,SiO2玻璃衬底上沉积40 min的薄膜主要物相为VO2和V2O5,退火时间延长到2 h,薄膜主要物相为VO2,薄膜晶粒尺寸均匀,晶粒大小约为100 nm;Si (100)上沉积40 min的薄膜在500 ℃下退火2 h后,物相为低于+4价的钒氧化物;掺钨后薄膜可见光和红外光的透过率都有提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	余志明	中南大学材料科学与工程学院	80	689	15.0	21.0
3	魏秋平	中南大学材料科学与工程学院	35	149	7.0	9.0
5	龙航宇	中南大学材料科学与工程学院	5	21	3.0	4.0
11	陈爽	中南大学材料科学与工程学院	5	26	4.0	5.0
17	刘学璋		1	6	1.0	1.0