片状纳米硅的结构及发光性能表征

• 作者: 卢世刚 张向军 杨娟玉 肖清华
• 来源期刊: 稀有金属
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米硅 精密磨削加工 光致发光 表征
• 年，卷（期）: 2009,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 217-222
• 页数: 6页
• 分类号: TN304.05
• 字数: 3302字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0258-7076.2009.02.016

摘要

采用精密磨削加工工艺法制备了厚度为纳米级片状硅,以FESEM,HRTEM,EDS,SEAD及XRD等分析手段对片状纳米硅的形貌、结构及组分进行分析和表征.结果表明,所制得的片状纳米硅为纳米级片状结构,片平均厚度为10～15nm,具有立方金刚石结构.由于量子限制效应的影响,所制得的片状纳米硅的拉曼光谱发生了红移.室温下在404,495及750 nm处可观察到片状纳米硅的紫、绿、红3种光致发光谱,解释了片状纳米硅的发光机制.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张向军		28	195	8.0	13.0
2	卢世刚		90	783	16.0	22.0
3	杨娟玉		14	95	6.0	9.0
4	肖清华		9	78	3.0	8.0