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Thermal stability of Hfl'aON films prepared by physical vapor deposition
Thermal stability of Hfl'aON films prepared by physical vapor deposition
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摘要：
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Theoretical calculation of equilibrium Mg isotope fractionation between silicate melt and its vapor
Equilibrium Mg isotope fractionation
Force constant
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RPFR
The use of hydrogeochemical analyses and multivariate statistics for the characterization of thermal
Hydrogeochemistry
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Multivariate statistical analysis
Silica geothermometers
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Geochemical assessment, mixing behavior and environmental impact of thermal waters in the Guelma geo
Geochemistry
Geothermometry
Mixing
Thermal effluents
Guelma
Algeria
Dated deposition couplets link catchment erosion flux with storm discharge on the Chinese Loess Plat
Landslide-dammed reservoir on the CLP
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半导体学报(英文版)
主办单位：
中国电子学会和中国科学院半导体研究所
出版周期：
月刊
ISSN：
1674-4926
CN：
11-5781/TN
开本：
大16开
出版地：
北京912信箱
邮发代号：
2-184
创刊时间：
1980
语种：
eng
出版文献量（篇）
6983
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