溅射工艺条件对氧化钒欧姆接触特性的影响

• 作者: 吴志明 李伟 王涛 董翔 蒋亚东 许向东
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 溅射功率 衬底温度 氧化钒薄膜 金属薄膜电极 欧姆接触
• 年，卷（期）: 2009,（2）
• 所属期刊栏目: 材料、结构及工艺
• 页码范围: 236-241
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.92
• 语种: 中文

摘要

采用反应磁控溅射并在氧氛围下进行后退火处理的方式,制备了氧化钒薄膜.尝试了在氧化钒上以不同衬底温度和溅射功率等工艺条件溅射金属薄膜电极.通过对氧化钒-金属接触的电流-电压(I-V)测试的数据进行分析拟合,研究了氧化钒薄膜表面性质和测试偏压的变化对I-V特性曲线欧姆系数的影响.结果表明在化学计量比约为VO2.15的非晶氧化钒薄膜上,溅射的金属电极随着溅射功率和测试偏压的提高,I-V特性曲线的线性度得到了逐步的改善.通过比较Ni/Cr,Ti及Al不同金属电极的接触性能,提出了合理的欧姆接触工艺条件以及电极工作电压范围.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋亚东	电子科技大学光电信	318	2024	18.0	25.0
2	李伟		5	41	3.0	5.0
3	吴志明		4	46	3.0	4.0
4	王涛		2	8	1.0	2.0
5	董翔		1	0	0.0	0.0
6	许向东		1	0	0.0	0.0