基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
文中采用射频反应溅射法制备氧化钒薄膜,并用三段式控温退火炉对薄膜进行快速升降温退火处理.文中重点就退火条件对氧化钒薄膜的电学性能的影响进行了研究.研究结果表明:退火时间和退火温度均对薄膜电学性能有较大影响,考虑到氧化钒薄膜热敏性能要求,兼顾微测辐射热计制备工艺(即微电子机械系统(简称MEMS)工艺)要求,退火时间约1~2小时,退火温度应控制在400℃~500℃之间.
推荐文章
晶粒尺寸对氧化钒薄膜电学与光学相变特性的影响
氧化钒薄膜
晶粒尺寸
光学相变
退火条件对Sn掺杂ZnO薄膜光电性能的影响
溶胶-凝胶
Sn掺杂ZnO(SZO)薄膜
退火条件
光电性能
二氧化钒薄膜的制备及性能表征
脉冲激光沉积
二氧化钒
薄膜
X射线衍射
电学性质
c轴取向钒酸铋铁电薄膜的制备及电学性能
化学溶液沉积法
钒酸铋
择优取向
铁电薄膜
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 退火条件对氧化钒薄膜电学性能的影响
来源期刊 南京邮电大学学报(自然科学版) 学科 物理学
关键词 二氧化钒 快速升降温退火 电阻温度系数 微测辐射热计
年,卷(期) 2011,(6) 所属期刊栏目 信息材料与光电器件
研究方向 页码范围 117-120
页数 分类号 O47
字数 2501字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1673-5439.2011.06.022
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 王海云 南京邮电大学理学院 15 35 4.0 4.0
2 王利霞 南京邮电大学理学院 8 20 3.0 4.0
3 严刚 南京邮电大学理学院 7 36 3.0 6.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (5)
共引文献  (26)
参考文献  (10)
节点文献
引证文献  (1)
同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
1994(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1995(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1997(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1998(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1999(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
2001(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2002(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2003(2)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(0)
2004(2)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(0)
2006(3)
  • 参考文献(3)
  • 二级参考文献(0)
2011(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
2014(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
二氧化钒
快速升降温退火
电阻温度系数
微测辐射热计
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
南京邮电大学学报(自然科学版)
双月刊
1673-5439
32-1772/TN
大16开
南京市亚芳新城区文苑路9号
1960
chi
出版文献量(篇)
2234
总下载数(次)
13
  • 期刊分类
  • 期刊(年)
  • 期刊(期)
  • 期刊推荐
论文1v1指导