溅射时间对氧化钒薄膜光学特性的影响

• 作者: 吴志明 王尧 王涛 罗振飞 蒋亚东
• 来源期刊: 电子器件
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化钒 溅射时间 红外透过率 相变温度
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 固态电子器件及材料
• 页码范围: 629-632
• 分类号: TN304.055|TN305.92
• 字数: 2419字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-9490.2011.06.007

摘要

我们在玻璃衬底上用磁控溅射的方法以不同的溅射时间(15、20、25、30 min)沉积了氧化钒薄膜,我们发现随着溅射时间的增加,氧化钒薄膜的红外透过率的改变量可高达58％,氧化钒薄膜的相变温度从66℃减下到50℃,从薄膜的X射线衍射图中,我们可以看出,随着溅射时间的延长,V02(100)峰出现.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴志明	电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室	78	544	13.0	17.0
2	蒋亚东	电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室	318	2024	18.0	25.0
3	王涛	电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室	55	346	11.0	14.0
4	罗振飞	电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室	6	25	3.0	5.0
5	王尧	电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室	2	12	1.0	2.0