基片温度对氧化铋薄膜光学性质的影响

• 作者: 吕佩伟 林丽梅 瞿燕 赖发春 郑明志
• 来源期刊: 福建师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 氧化铋 薄膜 基片温度 光学性质
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 页码范围: 57-61
• 分类号: O484
• 字数: 2945字
• 语种: 中文

摘要

在玻璃基片上直流磁控溅射沉积氧化铋薄膜,基片温度从室温增加到300℃并保持其它沉积条件一致,研究基片温度对薄膜光学性能的影响.样品的晶体结构、表面形貌和透射光谱分别用X射线衍射仪、原子力显微镜和分光光度计进行测量.结果表明,随着基片温度的增加,样品中Bi2O3的(120)衍射峰强度增强,表面颗粒直径逐渐减小;基片温度为250,300℃样品出现了Bi2O2.75的(006)衍射峰.采用拟合透射光谱数据的方法计算薄膜的折射率,消光系数及厚度,并求出光学带隙.随基片温度的增加,氧化铋薄膜的折射率减小,消光系数在10-2～10-1数量级,光学带隙在3.51～3.04 eV递减.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林丽梅	福建师范大学物理与光电信息科技学院	28	139	8.0	11.0
2	瞿燕	福建师范大学物理与光电信息科技学院	19	108	6.0	10.0
3	赖发春	福建师范大学物理与光电信息科技学院	37	216	8.0	13.0
4	吕佩伟	福建师范大学物理与光电信息科技学院	4	10	1.0	3.0
5	郑明志	福建师范大学物理与光电信息科技学院	5	17	3.0	4.0