退火温度对低温生长MgxZn1-xO薄膜光学性质的影响

• 作者: 宗福建 张锡健 王卿璞 肖洪地 计峰 马洪磊 马瑾
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 工学
• 关键词: MgxZn1-xO薄膜 射频磁控溅射 退火
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:结构、热学和力学性质
• 页码范围: 437-440
• 页数: 4页
• 分类号: TG1
• 字数: 2514字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2006.01.076

摘要

用射频磁控溅射法在80℃衬底温度下制备出MgxZn1-xO(x=0.16)薄膜,用X射线衍射(XRD)、光致发光(PL)和透射谱研究了退火温度对MgxZn1-xO薄膜结构和光学性质的影响.测量结果显示,MgxZn1-xO薄膜为单相六角纤锌矿结构,并且具有沿c轴的择优取向;随着退火温度的升高,(002)XRD峰强度、平均晶粒尺寸和紫外PL峰强度增大,(002)XRD峰半高宽(FWHM)减小.结果证明,用射频磁控溅射法通过适当控制退火温度可得到高质量MgxZn1-xO薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马瑾	山东大学物理与微电子学院	44	495	13.0	20.0
2	计峰	山东大学物理与微电子学院	23	185	7.0	13.0
3	马洪磊	山东大学物理与微电子学院	58	681	15.0	23.0
4	肖洪地	山东大学物理与微电子学院	25	162	7.0	11.0
5	王卿璞	山东大学物理与微电子学院	32	527	13.0	22.0
6	张锡健	山东大学物理与微电子学院	18	195	7.0	13.0
7	宗福建	山东大学物理与微电子学院	13	37	5.0	5.0