衬底温度对MgxZn1-xO晶体薄膜表面形貌的影响

• 作者: 余萍
• 来源期刊: 华东交通大学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 低温物理沉积 MgxZn1-xO晶体薄膜 表面形貌
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 基础科学
• 页码范围: 154-157
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2449字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-0523.2007.02.042

摘要

采用低温物理沉积技术在二氧化硅衬底(SiO2/Si(100)生长出了MgxZn1-xO晶体薄膜.用原子力显微镜(AFM)测得不同衬底温度下晶体薄膜的表面平整性,根据测得的数据资料分析衬底温度对薄膜表面粗糙度的影响,发现在250 ℃时生长得到的MgxZn1-xO薄膜具有最好的平整性,这也和以前生长的MgxZn1-xO薄膜分析结果一致.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	余萍	华东交通大学基础科学学院物理系	11	22	3.0	4.0