GaN HEMT欧姆接触模式对电学特性的影响

• 作者: 徐晨 曹伟伟 朱彦旭 邓叶 邹德恕
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: AlGaN/GaN 高迁移率电子晶体管 欧姆接触
• 年，卷（期）: 2014,（11）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 117302-1-117302-5
• 页数: 1页
• 字数: 2487字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.63.117302

摘要

本文制备了AlGaN/GaN HEMT器件中常规结构与带有纵向接触孔结构的两种接触电极，研究了该两种源欧姆接触模式对器件电学特性的影响.在相同条件下进行快速退火，发现在750?C下退火30 s后，常规结构还没有形成欧姆接触，而带有纵向欧姆接触孔的接触电极与外延片已经形成了良好的欧姆接触.同时，比较了Ti/Al/Ti/Au和Ti/Al/Ni/Au电极退火后表面形态， Ti/Al/Ni/Au具有更好的表面形貌.通过测试两种结构的HEMT器件后，发现采用纵向欧姆接触孔结构器件具有更高的跨导和饱和电流，但是也会在栅极电压为0.5-2 V之间产生严重的电流崩塌现象.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐晨	北京工业大学省部共建光电子重点实验室	63	295	9.0	13.0
2	邹德恕	北京工业大学省部共建光电子重点实验室	58	270	10.0	12.0
3	朱彦旭	北京工业大学省部共建光电子重点实验室	21	79	6.0	8.0
4	曹伟伟	北京工业大学省部共建光电子重点实验室	3	15	3.0	3.0
5	邓叶	北京工业大学省部共建光电子重点实验室	3	15	3.0	3.0