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表面处理对p-GaN欧姆接触的影响
表面处理对p-GaN欧姆接触的影响
作者:
刘志强
师宏伟
梁萌
王国宏
王良臣
范曼宁
郭德博
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
GaN
欧姆接触
圆形传输线模型
摘要:
分别用稀盐酸、王水以及(NH4)2S溶液处理p-GaN表面,通过测试样品表面Ols的X射线光电子能谱(XPS),比较了这些溶液去除p-GaN表面氧化层的能力;在经不同溶液处理后的样品表面,以相同的条件制作Ni/Au电极,并测试其与p-GaN的比接触电阻,结果表明经稀盐酸处理后的样品表面,由于其氧含量较高,不能与Ni/Au形成良好的欧姆接触,而经王水和(NH4)2S溶液处理后的p-GaN表面,能与Ni/Au形成良好的欧姆接触;最后,通过比较样品表面的Ga/N原子浓度比,探讨了王水处理p-GaN表面能够形成良好欧姆接触的原因.
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Ni插入层对Ag/p-GaN界面接触性能的影响机理
Ag/p-GaN接触
牺牲Ni处理
Ni插入层
表面费米能级
内容分析
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关键词热度
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文献信息
篇名
表面处理对p-GaN欧姆接触的影响
来源期刊
半导体学报
学科
工学
关键词
GaN
欧姆接触
圆形传输线模型
年,卷(期)
2007,(11)
所属期刊栏目
研究论文
研究方向
页码范围
1811-1814
页数
4页
分类号
TN312.8
字数
3053字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:0253-4177.2007.11.027
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
刘志强
中国科学院半导体研究所
280
3753
31.0
42.0
2
王国宏
中国科学院半导体研究所
41
1911
17.0
41.0
3
王良臣
中国科学院半导体研究所
31
192
8.0
13.0
4
梁萌
中国科学院半导体研究所
5
64
3.0
5.0
5
范曼宁
中国科学院半导体研究所
4
61
2.0
4.0
6
郭德博
中国科学院半导体研究所
5
66
3.0
5.0
7
师宏伟
河北科技师范学院数学物理系
2
14
2.0
2.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献
(7)
共引文献
(5)
参考文献
(16)
节点文献
引证文献
(12)
同被引文献
(6)
二级引证文献
(9)
1980(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
1982(2)
参考文献(1)
二级参考文献(1)
1983(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
1989(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
1992(2)
参考文献(2)
二级参考文献(0)
1993(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
1996(2)
参考文献(2)
二级参考文献(0)
1997(3)
参考文献(2)
二级参考文献(1)
1998(1)
参考文献(1)
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1999(3)
参考文献(1)
二级参考文献(2)
2003(2)
参考文献(1)
二级参考文献(1)
2004(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
2005(1)
参考文献(1)
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参考文献(2)
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节点文献
GaN
欧姆接触
圆形传输线模型
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
半导体学报(英文版)
主办单位:
中国电子学会和中国科学院半导体研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1674-4926
CN:
11-5781/TN
开本:
大16开
出版地:
北京912信箱
邮发代号:
2-184
创刊时间:
1980
语种:
eng
出版文献量(篇)
6983
总下载数(次)
8
总被引数(次)
35317
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