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摘要:
宽带隙的GaN具有优良的物理和化学性质,己成为半导体领域研究的热点之一.p型GaN的欧姆接触问题制约了GaN基器件的进一步发展.本文首先介绍了欧姆接触的原理及评价方法,详细讨论了实现良好的p型GaN欧姆接触的主要方法是采取表面处理技术、选择合适的金属电极材料和进行热退火处理,以及研究进展情况.最后指出目前存在的问题并提出今后的研究方向.
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GaN
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欧姆接触
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 p型GaN基器件的欧姆接触
来源期刊 真空电子技术 学科 物理学
关键词 p型氮化镓 欧姆接触 比接触电阻 表面处理 金属电极材料 热退火
年,卷(期) 2008,(5) 所属期刊栏目 综述
研究方向 页码范围 42-46
页数 5页 分类号 O472
字数 4937字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1002-8935.2008.05.013
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 刘一兵 湖南大学电气与信息工程学院 22 487 12.0 22.0
5 丁洁 邵阳职业技术学院机电工程系 1 6 1.0 1.0
传播情况
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引文网络
引文网络
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2016(2)
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  • 二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
p型氮化镓
欧姆接触
比接触电阻
表面处理
金属电极材料
热退火
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空电子技术
双月刊
1002-8935
11-2485/TN
大16开
北京749信箱7分箱
1959
chi
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