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增强光电图像传感器紫外探测薄膜的制备
增强光电图像传感器紫外探测薄膜的制备
作者:
倪争技
刘猛
张大伟
谢品
黄元申
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
Zn2SiO4:Mn
图像传感器
紫外探测
薄膜
摘要:
传统的CCD、COMS等光电成像器件并不响应紫外光,在CCD、CMOS传感器光敏面镀上"紫外-可见"变频薄膜是增强其紫外响应的一种非常有效的方法.Zn2SiO4: Mn由于粒子直径小,稳定性好,荧光量子效率高等优点,在增强光电器件紫外响应领域有着很广泛的应用前景.实验用"旋涂法"在石英基底上生成Zn2SiO4: Mn紫外增强薄膜,并对其透射光谱、吸收光谱、激发光谱与发射光谱等光学性质进行测量分析.实验测得薄膜在300 nm以下透过率极低,在300 nm以上透过率很高且平稳;对300 nm以下的光具有很强的吸收,对300 nm以上的光吸收很弱且很平稳;激发峰在265 nm,发射峰在525 nm,即能将紫外光转化为可见光.实验结果表明Zn2SiO4: Mn薄膜是一种适用于增强CCD等图像传感器紫外响应的紫外增强薄膜.
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文献信息
篇名
增强光电图像传感器紫外探测薄膜的制备
来源期刊
仪表技术与传感器
学科
物理学
关键词
Zn2SiO4:Mn
图像传感器
紫外探测
薄膜
年,卷(期)
2009,(9)
所属期刊栏目
传感器技术
研究方向
页码范围
12-14
页数
3页
分类号
O484
字数
2058字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1002-1841.2009.09.005
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
张大伟
上海理工大学光学与电子信息工程学院
117
391
11.0
15.0
2
黄元申
上海理工大学光学与电子信息工程学院
56
348
11.0
16.0
3
倪争技
上海理工大学光学与电子信息工程学院
43
341
12.0
17.0
4
刘猛
上海理工大学光学与电子信息工程学院
8
17
3.0
3.0
5
谢品
上海理工大学光学与电子信息工程学院
3
33
2.0
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引证文献(1)
二级引证文献(0)
2017(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2018(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
2019(4)
引证文献(2)
二级引证文献(2)
2020(6)
引证文献(1)
二级引证文献(5)
研究主题发展历程
节点文献
Zn2SiO4:Mn
图像传感器
紫外探测
薄膜
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
仪表技术与传感器
主办单位:
沈阳仪表科学研究院
出版周期:
月刊
ISSN:
1002-1841
CN:
21-1154/TH
开本:
大16开
出版地:
沈阳市大东区北海街242号
邮发代号:
8-69
创刊时间:
1964
语种:
chi
出版文献量(篇)
7929
总下载数(次)
16
总被引数(次)
49345
期刊文献
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