固着磨料加工碳化硅反射镜的微观理论模型

• 作者: 张学军 王旭
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 碳化硅反射镜 固着磨料 丸片 去除率 粗糙度
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 513-518
• 页数: 6页
• 分类号: TN304.05|TH703
• 字数: 3721字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-924X.2009.03.008

摘要

基于固着磨料加工碳化硅反射镜的微观作用原理,从理论上定量分析了金刚石磨料压入碳化硅工件的深度对材料去除率、光学元件表面粗糙度的影响,分别获得了材料去除率数学模型及粗糙度的仿真计算结果.实验与理论模型的对比结果表明:去除率实验值与理论值走势相同并稳定在同一数量级内;粗糙度实验所使用的W1.5,W3.5,W5等丸片获得的粗糙度理论值与实验偏差分别为5.97%,3.19%,3.59%,由此验证了理论分析的正确性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王旭		1	17	1.0	1.0