固着磨料抛光碳化硅反射镜的去除函数

• 作者: 张学军 张峰 王旭
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 固着磨料 丸片 碳化硅 去除函数
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 951-957
• 页数: 7页
• 分类号: TQ171.684
• 字数: 3851字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-924X.2009.05.002

摘要

进一步研究了采用固着磨料数控加工碳化硅反射镜的工艺,基于平转动加工方式的去除函数理论推导出了多丸片抛光盘的去除函数模型.根据趋近因子、曲线距离等结果对抛光盘运动偏心距及丸片间距等参数进行优化,由优化后的参数指导实验.理论模型与实验结果对比显示,理论最大去除率与实验数据的偏差为0.007 3 μm/min,偏差比例为5.58%;理论去除函数曲线与实验曲线的距离偏差Drms为0.084 9 μm,偏差比例为7.01%.在分析部分,引入填充因子来间接评价去除函数形状.实验结果很好地验证了理论模型的准确性.该模型对固着磨料磨具抛光的工艺过程具有很好的预测性,在加工碳化硅反射镜领域极大地弥补了使用散粒磨料工艺加工所带来的不足,使加工效率得以明显提升.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张峰		2	9	2.0	2.0
2	张学军		2	8	1.0	2.0