低压电子铝箔耐蚀性的研究与应用

• 作者: 何业东 杨宏 杨静
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: 腐蚀工艺 低压电子铝箔 耐蚀性
• 年，卷（期）: 2009,（12）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 43-45
• 页数: 3页
• 分类号: TM535
• 字数: 2479字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2009.12.013

摘要

采用对比实验,研究了腐蚀工艺对低压电子铝箔耐蚀性的影响.当腐蚀溶液中w(HCl)为15%～25%、w(H_2SO_4)为10%～20%,温度为85 ℃,电流密度为0.40 A/cm~2,腐蚀时间为3 min时,铝箔腐蚀效果最佳,其耐蚀性数值(腐蚀前后质量差值与原光箔质量之比)为0.70%～0.83%.该工艺可迅速准确地判断低压电子铝箔的耐蚀性,平均每个样品所花时间仅为26 min.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何业东	北京科技大学材料科学与工程学院	40	202	9.0	10.0
2	杨静	北京科技大学材料科学与工程学院	22	164	6.0	12.0
3	杨宏	北京科技大学材料科学与工程学院	12	186	6.0	12.0