基于精密刻划及薄膜沉积技术的光盘分束光栅研制

• 作者: 吴娜 宋可平 巴音贺希格 张善文 高键翔 齐向东
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 光学头 分束光栅 精密刻划 镀膜技术 加工工艺
• 年，卷（期）: 2009,（7）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 1497-1501
• 页数: 5页
• 分类号: O436.1|TN305.7
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-924X.2009.07.001

摘要

给出了采用光栅刻划和镀膜技术相结合研制光盘分束光栅的方法.采用光栅刻划机在金属膜上刻制占宽比为0.5的黑白光栅,并由黑白光栅翻制出制作光盘分束光栅的掩模版.通过掩模版对涂覆在K9玻璃基底上的光刻胶实施曝光和显影形成光刻胶矩形浮雕光栅,在理论设计的误差允许范围内,对此浮雕光栅沉积SiO2薄膜,去除残余光刻胶后得到SiO2矩形光栅母版,再经复制工艺制作了环氧树脂光盘分束光栅.测试结果表明,利用光盘分束光栅的纵向和横向加工误差的互补性,可以将光栅辅助光束与读写主光束强度之比的误差控制在±0.03之内.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋可平	清华大学精密仪器与机械学院	4	18	3.0	4.0
2	巴音贺希格	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	112	817	16.0	23.0
3	齐向东	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	61	630	16.0	22.0