纯铜表面纳米化对Ti离子注入的影响

• 作者: 侯利锋 卫英慧 杜华云 林万明 毕海香
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 表面纳米化 离子注入 铜
• 年，卷（期）: 2009,（9）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 1552-1554
• 页数: 3页
• 分类号: TG178
• 字数: 2006字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2009.09.041

摘要

为了改善金属材料表面的综合性能,将表面改性技术和纳米技术相结合逐渐得到了人们的重视.用金属蒸气孤(MEVVA)源离子注入机,将能量为40keV,剂量为2×1017iONS/cm2的Ti离子注入纳米纯铜中.利用透射电子显微镜(TEM)、X射线衍射仪(XRD)、俄歇电子能谱(AES)对表层组织及注入浓度分布等进行了分析.研究结果表明,纯铜表面经过SMAT纳米化处理后,注入元素的浓度呈现高斯分布,与未处理的样品相比,峰值浓度提高了30%,注入深度达到160nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	卫英慧	太原理工大学材料科学与工程学院	166	1066	16.0	24.0
2	侯利锋	太原理工大学材料科学与工程学院	110	536	13.0	17.0
3	杜华云	太原理工大学材料科学与工程学院	31	152	8.0	11.0
4	林万明	太原理工大学材料科学与工程学院	49	302	11.0	15.0
5	毕海香	太原理工大学材料科学与工程学院	3	25	3.0	3.0